【ＮＡＰ処理とブラスト処理との処理工程の違い】
ＮＡＰ処理は、異形状で硬度高いトゲ形成し比重2程度を吹付圧力0.05～0.2㎫の低圧で金属表面メディア転がすイメージで硬度高いトゲで凹凸形成する、約Ra100㎚と約Ra300㎚2種類のメディアがあります。メディアサイズは、約Ra100㎚が35㎛、約Ra300㎚が45㎛です。
ブラスト処理は、球状が多く硬度の高い素材で比重は5～8で、吹付圧力5～10㎫の高圧で金属表面にストレートで当て凹凸形成する、面相度はRa1.5㎛以上です。
【ＮＡＰ処理とブラスト処理との金属面加工状態の違い】
ＮＡＰ処理の特徴は、貫通穴の内面に均一な凹凸形成する出来る事、微細加工の押出成形金型加工時に出来るカエリ跡の処理、微細3D形状に対しても、約Ra100㎚が35㎛、約Ra300㎚が45㎛のメディア通す形状であれば、加工に対応ができます。
ブラスト処理は、メディアが、直線的にしか飛ばないため、ノズルの方向を変化させて、全面処理するので、微細形状の影部の、凹凸形成にムラが出ます。また、貫通穴の内面には、多数の線の跡が着くだけでした。
【ＮＡＰ処理の開発について】
ＮＡＰ処理の開発では、高回転する異形状で比重が軽いく、低い吹付圧で均一な凹凸形成が可能なメディア開発、硬度高いトゲの形成をテーマとして3年間で、0.05～0.2㎫の吹付圧でエッジダレが少なく、トゲの形成により面相度約Ra100㎚と約Ra300㎚の均一な凹凸形成可能で、貫通穴の内面も凹凸形成できるようになりました。
【研究開発履歴 株式会社 Ｍ＆Ｔ 山下 和之】
1977年 4月 シルバー樹脂工業株式会社（現在の株式会社リッチェル）に入社
1988年 10月 射出成形技能検定１級合格 取得番号88-1-037-16-1
2003年 4月 富山県工業技術センターと樹脂組成物開発の共同研究を開始
2004年 8月 初めての特許出願
2004年 10月 文部科学省の地域創造クラスター「とやま医薬バイオクラスター」から樹脂製マイクロウェル細胞チップの開発依頼があり、クラスターに参画し、富山県工業技術センターと富山大学と産学官連携研究を開始
2005年 5月 樹脂製マイクロウェル細胞チップの開発完了、特許出願
2008年 2月 とやま医薬バイオクラスターから、ドイツで研究成果講演の依頼、ドイツの企業及び大学で10日間11回の講演及びプレゼンを実施する。
2008年 4月 マイクロチップ研究所 所長を任される。
2008年 5月 文部科学省 林 幸秀 審議官、マイクロチップ研究所を視察
2008年 7月 富山県 石井隆一知事、マイクロチップ研究所を視察
2009年 11月 株式会社リッチェルを退職
2011年 8月 株式会社ジェイエムピーに入社
2013年 11月 株式会社Ｍ＆Ｔを設立
2014年 12月 商標登録取得：ＮＡＰ処理（ナノ凹凸金属表面加工）
2015年 5月 特許取得：樹脂成型用金型
2018年 9月 特許取得：微小凹凸構造体
【特許発明の実績、全ての特許は、公知です】
国際特許発明4件
ＷＯ2011/058914 医療又は生化学用樹脂組成物及び樹脂成形品
ＷＯ2008/123410 検体薄片の保護具及びこれを備えた顕微鏡観察用具
ＷＯ2006/135061 接合構造体
ＷＯ2005/059025 転写性に優れた樹脂組成物を用いたマイクロ部品
国内特許発明11件
【Differences in processing processes between NAP and blasting】
NAP treatment forms heterogeneous and high-hardness thorns, and the specific gravity of about 2 is sprayed with a low pressure of 0.05~0.2 MPa, and the metal surface media is rolled with a high hardness thorn, which is about Ra100nm and Ra300 nm. There are two types of media. The media size is 35 μm for about Ra100nm and 45 μm for about Ra300nm.
The blasting process is a spherical material with high hardness with a specific gravity of 5~8, and a surface degree of Ra1.5 μm or more that is formed by applying it straight to the metal surface at a high pressure of 5~10 MPa.
【Differences in metal surface processing conditions between NAP and blasting treatments.】
The features of NAP treatment are the ability to form uniform unevenness on the inner surface of the through hole, the treatment of the scar mark that can be done during the processing of micro-machining extrusion molds, and the ability to achieve 35μm for about Ra 100nm and 45 for about 300nm for micro-3D shapes. μm medium-to-body shapes can be processed.
In blasting processing, the direction of the nozzle is changed and the entire surface is processed because the media flies only in a straight line, resulting in uneven formation of the shadow part of the fine shape. In addition, the inner surface of the through hole only had a large number of line marks.
【Development of NAP Processing】
In the development of NAP treatment, we developed a medium that can form uniform unevenness with a high rotation shape and a low blowing pressure, and a 3-year development of a high-hardness spine with a blowing pressure of 0.05~0.2MPa with less edge sagging, and a surface phase degree of about Ra100nm due to the formation of thorns. Ra300nm can now be uniformly formed, and the inner surface of the through hole can also be uneven.
【R&D History M&T Co., Ltd. Kazuyuki Yamashita】
April 1977 Joined Silver Resin Industry Co., Ltd. (now Richell Co., Ltd.)
1988.10 Passed the injection molding skills test level 1 Acquisition number 88-1-037-16-1
April 2003 Started joint research on resin composition development with Toyama Prefectural Industrial Technology Center
August 2004 First patent application
October 2004 Received a request from the Ministry of Education, Culture, Sports, Science and Technology’s regional creation cluster “Toyama Pharmaceutical Biocluster” to develop a resin microwell cell chip, and participated in the cluster and started industry-academia-government collaborative research with the Toyama Prefectural Industrial Technology Center and the University of Toyama.
May 2005 Completed the development of a resin microwell cell chip and applied for a patent
February 2008 Toyama Biocluster requested a lecture on research results in Germany, and gave 11 lectures and presentations at German companies and universities over 10 days.
April 2008 He was appointed director of the Microchip Research Institute.
May 2008 Ministry of Education, Culture, Sports, Science and Technology Yukihide Hayashi visited the Microchip Research Institute
July 2008 Toyama Prefecture Governor Ryuichi Ishii visited the Microchip Research Institute
November 2009 Retired from Richell Co., Ltd.
August 2011 Joined JMP Co., Ltd.
November 2013 Established M&T Co., Ltd.
December 2014 Trademark registration: NAP treatment (nano-uneven metal surface treatment)
May 2015 Patent acquisition: mold for resin molding
September 2018 Patent granted: micro-uneven structure
【Patented invention track record, all patents are publicly known】
4 international patented inventions
WO2011/058914 Resin Composition and Resin Molded Products for Medical or Biochemical Use
WO2008/123410 Protective equipment for thin specimen flakes and microscopic observation tools equipped with the same
WO2006/135061 Joint Structures
WO2005/059025 Micro Components Using Highly Transferable Resin Compositions
11 domestic patented inventions
